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湖南弘林科學(xué)儀器有限公司


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總有機(jī)碳(toc)分析儀HTY-DI1000C型
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總有機(jī)碳(toc)分析儀HTY-DI1000C型

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  • 商品名稱:總有機(jī)碳(toc)分析儀HTY-DI1000C型
  • 商品編號(hào):YQC000980
  • 品牌:
  • 上架時(shí)間:2019-06-25
  • 商品毛重:0克
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HTY-DI1000C型總有機(jī)碳(toc)分析儀是我廠獨(dú)立研制的產(chǎn)品實(shí)驗(yàn)室TOC,用于測定水樣中總有機(jī)碳的濃度,具有高靈敏度和準(zhǔn)確度。

HTY-DI1000C型總有機(jī)碳分析儀可以檢測TOC濃度從0.001mg/L到1.000mg/L的水樣。本產(chǎn)品操作簡單,維護(hù)費(fèi)用低,無需添加化學(xué)試劑,操作人員無需特殊培訓(xùn)或?qū)I(yè)化學(xué)知識(shí)。

HTY-DI1000C總有機(jī)碳分析儀技術(shù)參數(shù):

電    源:220V±22V
電源頻率:50Hz±1Hz
額定功率:100W
基本尺寸:390mm×194mm×187mm
檢測極限:0.001mg/L
最大允許誤差:±5%
檢測范圍:0.001mg/L~1.000mg/L
分析時(shí)間:4min
響應(yīng)時(shí)間:15 min以內(nèi)
樣品溫度:1~95℃
環(huán)境溫度:10~40℃    溫度變化在±5℃/d以內(nèi)
內(nèi)部樣品流速:0.5 mL/min
相對濕度:≤ 85%
重復(fù)性誤差:≤ 3%
零點(diǎn)漂移:±5%
量程漂移:±5%

HTY-DI1000C總有機(jī)碳分析儀主要特點(diǎn):

1. 采用紫外光催化氧化法,不需催化劑和載氣;
2. 自主研發(fā)設(shè)計(jì)了二氧化鈦催化涂層螺旋管,特別適用于制藥用水測定有機(jī)碳含量;
3. 具有超出設(shè)定上限值時(shí)蜂鳴報(bào)警功能,保護(hù)儀器,防止誤操作;
4. 可選配在線檢測裝置(在線與離線模式可自由切換),滿足在線監(jiān)測需求;
5. 可選配自動(dòng)取樣裝置;
6. 符合CP2010版“總有機(jī)碳檢查法”及USP32-643章 系統(tǒng)適應(yīng)性要求;
7. 不需要添加酸試劑、氧化劑和任何氣體,無需附加日常維護(hù)費(fèi)。
8. 操作簡單、快捷、可靠。使用者無需專業(yè)知識(shí)和專門培訓(xùn)。
9. 針對TOC含量1.000mg/L以下的去離子水的檢測而設(shè)計(jì)。
10. 超大的存儲(chǔ)器能自動(dòng)存儲(chǔ)最近12個(gè)月連續(xù)檢測的數(shù)據(jù),可以查詢?nèi)我庖惶斓臋z測記錄,并能打印檢測結(jié)果。
11. 檢測速度快,一次檢測分析時(shí)間不超過4分鐘。
12. 體積小、重量輕、耗能少、攜帶方便。
13. 具有自動(dòng)的上限報(bào)警輸出,超出設(shè)定的檢測結(jié)果時(shí)可以提醒操作者。
14. 易于按照USP和EP <2.2.44>以及中國藥典附錄Ⅷ R所要求的TOC檢測方法進(jìn)行系統(tǒng)適用性試驗(yàn)。
15. 超大的320′234的點(diǎn)陣真彩顯示器以及人性化的界面,具有RS232數(shù)據(jù)接口和打印機(jī)接口。
16. 通過CMC認(rèn)證,浙制01010406號(hào)-2。

HTY-DI1000C總有機(jī)碳分析儀工作原理:

樣品中的有機(jī)物在紫外線(UV)的作用下被氧化成二氧化碳,二氧化碳的測定采用了電導(dǎo)率檢測技術(shù)。通過測定未經(jīng)氧化的樣品的總無機(jī)碳(TIC或IC)濃度,和經(jīng)氧化后得到的樣品的總碳(TC)濃度來計(jì)算總有機(jī)碳濃度。總有機(jī)碳濃度即總碳濃度與總無機(jī)碳濃度之間的差值:TOC = TC–TIC。

HTY-DI1000C總有機(jī)碳分析儀應(yīng)用領(lǐng)域:

該儀器可用于檢測制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中總有機(jī)碳的濃度;也可用于半導(dǎo)體行業(yè)、電廠、科研單位、實(shí)驗(yàn)室等超純水TOC的檢測,在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗(yàn)證過程中,可用于驗(yàn)證清潔效果。

該儀器具有在線檢測功能(在線檢測裝置需另選配),可以在線監(jiān)測制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過程、電廠去離子水制備過程等。

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